電子元器件的制造需要大量高品質(zhì)的純水、超純水,電子級超純水是目前世界上純凈品質(zhì)要求*高的水.電子工業(yè)用的超純水，例如廣泛用于生產(chǎn)計算機硬盤，集成電路芯片，半
導(dǎo)體，顯像管，液晶顯示器，線路板等用的純水，對水的純度要求較高，對出水電阻率的要求達到上（MΩ.cm）級。
隨著電子工業(yè)的發(fā)展對
高純水提出了越來越高的要求。例如，制作16K位DRAM允許水中TOC（總有機碳）為500ppb、金屬離子為1ppb、≥0.2μm的顆粒為100個/毫升；而制作16M位DRAM時，則要求TOC＜5ppb、金屬離子＜0.2ppb、水中≥0.1μm顆粒數(shù)為0.6個/升。
可以說在電子級超純水制備系統(tǒng)中匯集了當(dāng)前水處理技術(shù)**的工藝和設(shè)備,如超濾、微濾、反滲透、膜脫氣、電去離子(EDI)等,其中反滲透裝置是整個純水、超純水制備系統(tǒng)工程中一關(guān)鍵的設(shè)備.它能有效地去除原水中97%以上的溶解性無機物質(zhì)、99%以上的相對分子質(zhì)量大于300的有機物、99%以上的包括細菌在內(nèi)的各種微粒和95%以上的二氯化硅.
反滲透工藝在純水、超純水制備系統(tǒng)工程中的應(yīng)用,不但能提高了產(chǎn)水品質(zhì),降低生產(chǎn)成本,而且防止環(huán)境污染,有力地推進了電子工業(yè)的進步,同時也促進了純水、超純水制造技術(shù)的發(fā)展.
在我國RO應(yīng)用于電子工業(yè)水處理的報道，*早可追溯到1981年，RO技術(shù)就己成功應(yīng)用于大規(guī)模集成電路超純水制備。此后，不斷出現(xiàn)RO制取超純水工藝流程研究和更大規(guī)模超純水制備的報道。2004年4月，國家海洋局杭州水處理技術(shù)開發(fā)中心為樂金飛利浦曙光電子有限公司設(shè)計和建成的13Om3/hRO彩色顯象管廢水回收項目是RO純水制備技術(shù)在電子工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用的拓展。該項目是迄今我國*個較大規(guī)模進行彩色顯象管生產(chǎn)企業(yè)廢水回用項目。
通過國家“七五”、“八五”科技攻關(guān)項目的實施我國超純水制備系統(tǒng)工程設(shè)計和成套能力有了很大的提高,掌握了整套工程的系統(tǒng)工藝設(shè)計、設(shè)備制造和成套、安裝調(diào)試、技術(shù)培訓(xùn)等關(guān)鍵技術(shù),工程應(yīng)用技術(shù)已達到了國際水平。