超純水*初是美國科技界為了研制超純材料(半導(dǎo)體原件材料、納米精細(xì)陶瓷材料等)應(yīng)用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其它適當(dāng)?shù)某R界精細(xì)技術(shù)生產(chǎn)出來的水，如今超純水已在生物、醫(yī)藥、汽車等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。這種水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什么雜質(zhì)，更沒有細(xì)菌、病毒、含氯二惡英等有機(jī)物，當(dāng)然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素。超純水,是一般工藝很難達(dá)到的程度，如水的電阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm則稱為超純水。目前，制備超純水的方法通常采用反滲透，去離子或電去離子(EDI)等工藝。
化工行業(yè)高純水設(shè)備，采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水處理設(shè)備。
化工行業(yè)高純水設(shè)備主要應(yīng)用于電池行溶劑用水、化學(xué)分析、化工材料、產(chǎn)品清洗、物質(zhì)的分離、濃縮、提純，廢物回收等場合，對于水質(zhì)要求相對來說不是太高，純水電導(dǎo)率從0.1uS/cm-20uS/cm就基本上能滿足要求?；瘜W(xué)化工高純水設(shè)備采用反滲透，離子交換，EDI等超純水生產(chǎn)工藝的不同組合，生產(chǎn)出即經(jīng)濟(jì)實(shí)用，又能滿足客戶要求的超純水處理設(shè)備。
化工行業(yè)高純水設(shè)備主要應(yīng)用領(lǐng)域：紡織印染造紙用水；化學(xué)試劑生產(chǎn)用水；精細(xì)化學(xué)藥劑生產(chǎn)用水；日用化妝品生產(chǎn)用水；化工材料的生產(chǎn)和加工過程所用的溶劑及清洗過程；超純材料和超純化學(xué)試劑；
電子行業(yè)超純水設(shè)備主要應(yīng)用于：半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水；多硅晶超純水、太陽能行業(yè)超純水設(shè)備、電鍍工業(yè)超純水；多晶硅超純水、單晶硅超純水、太陽能超純水；光電超純水；LCD液晶顯示器用超純水。
電子行業(yè)
超純水、化工超純水常規(guī)制備工藝：
1）采用離子交換方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器（阻垢劑）→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點(diǎn)
2）采用反滲透加離子交換方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器（阻垢劑）→精密過濾器→反滲透機(jī)→陰陽樹脂混床→純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點(diǎn)
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器（阻垢劑）→精密過濾器→反滲透機(jī)→EDI系統(tǒng)→拋光混床→純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點(diǎn)
電子行業(yè)超純水、化工超純水相關(guān)水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)
電子超純水國家規(guī)格GB/T1146.1-1997
級別 EW-Ⅰ EW-Ⅱ EW-Ⅲ EW-Ⅳ
電阻率
MΩ·cm（25℃） 18
(95%時間)
不低于17 15
(95%時間)
不低于13 12.0 0.5
全硅 *大值ug/L 2 10 50 1000
>1um微粒數(shù)，*大值 個/ml 0.1 5 10 500
細(xì)菌數(shù)，*大值，個/mL 0.01 0.1 10 100
銅，*大值 ug/L 0.2 1 2 500
鋅，*大值 ug/L 0.2 1 2 500
鎳，*大值 ug/L 0.1 1 2 500
鈉，*大值 ug/L 0.5 2 5 1000
鉀，*大值 ug/L 0.5 2 5 500
氯，*大值 ug/L 1 1 10 1000
硝酸根，*大值 ug/L 1 1 10 500
磷酸根，*大值 ug/L 1 1 10 500
硫酸根，*大值 ug/L 1 1 10 500
總有機(jī)碳，*大值 ug/L 20 100 200 1000