2.1 碳酸鈣垢：
在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時(shí)或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)故障時(shí)給出水PH值升高，那么碳酸鈣就有可能沉積出來，應(yīng)盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉積的發(fā)生，以防止生長后的晶體對膜表面產(chǎn)生操作，如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢，可以用降低給水PH至3-5之間運(yùn)行1-2小時(shí)的方法去除。
對沉淀時(shí)間更長的碳酸鈣垢，則應(yīng)采用2%的檸檬酸清洗液（控制PH不小于4）進(jìn)行清洗。
注：應(yīng)確保任何清洗液的PH不要低于4，否則可能會對RO膜元件造成損害，特別在溫度較高時(shí)更應(yīng)注意，*高的PH值應(yīng)不大于10，可使用硫酸或鹽酸降低PH值，用氫氧化鈉來提高PH值。
2.2 硫酸鈣垢 ：
清洗液2（參見表2）是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的*佳方法。
2.3 金屬氧化物垢：
可以使上面所述的去降碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物（例如氫氧化鐵）。
2.4 硅垢：
對于不是與金屬氧化物或有機(jī)物共生的硅垢，一般只有通過專門的清洗方法，才能將他們?nèi)コ?，有關(guān)的詳細(xì)方法請與本公司聯(lián)系。
2.5 有積沉積物：
有機(jī)沉積物（如微生物粘泥或霉斑）可以使用清洗液去除，為了防止再生繁殖，可使用本公司認(rèn)可殺菌液在系統(tǒng)中循環(huán)浸泡，一般需較長時(shí)浸泡才能有效，如反滲透裝置停用超過三天時(shí)，*好采用清毒處理。
2.6 清洗液的選用：
清洗
反滲透膜元件時(shí)建議采用表二所列的清洗液。確定清洗液前對污染物進(jìn)行化學(xué)分析是十分重要的，對分析結(jié)果的詳細(xì)分析比較，可保證選擇*佳的清洗劑及清洗方法。應(yīng)記錄每次清洗時(shí)清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出*佳的清洗方法提供依據(jù)。
對于無機(jī)污染物建議使用1#清洗液，對硫酰鈣及有機(jī)污染物建議使用2#清洗液。對于嚴(yán)懲有機(jī)物污染建議使用3#清洗液。所有清洗液可以在溫度40℃下清洗60分鐘。所需用品量以每379升中加入量計(jì)，配制清洗液時(shí)按比例加入藥品及清洗用水（反滲透淡水）并混合均勻。