為了防止電滲析設備中的生物污染，劫殺哦一種膜電解堆疊體和包括該膜電解堆疊體的電滲析裝置，無電金屬鍍浴，例如無電鎳鍍浴含有還原劑，例如次磷酸鹽，以在待金屬化的表面上沉積金屬，在沉積過程中還原劑被氧化，并且不再可用于其余的鍍金屬過程，在使用次磷酸鹽操作的無電鎳鍍浴的情況中，以此方式由次磷酸鹽形成亞磷酸鹽，此外，在鍍金屬的過程中，在補充消耗的金屬的過程中另將為此使用的金屬鹽反離子加入至浴中，在鎳鍍浴的情況中，例如向浴液供應硫酸根陰離子，如同還原劑的氧化產(chǎn)物，這些離子聚積在浴液中，并且干擾鍍金屬過程的其他部分，無電鍍浴液的使用期通常因這些反應產(chǎn)物的聚積而受限，電滲析設備包括具有陽極室的陽極、具有陰極室的陰極，和被陰離子交換膜分隔、以及設置在陽極室和陰極室之間由陰離子交換膜分隔的兩個其他室，這些室的*個室通過陰離子交換膜而與陰極室分隔，而第二室通過陽離子交換膜而與陽極室分隔，當進行該方法時，將過程溶液充入*室中，由此其中含有的次磷酸根離子和亞磷酸根離子通過電滲析轉移入第二室中，并且同時次磷酸根離子被從陰離子室轉移入過程溶液中，并且提取經(jīng)再生的過程溶液，并供至其他用途，其中，將通過從陽極室流入質子而在第二室中形成的酸混合物供至次磷酸鹽負載中存在的弱堿性陰離子交換膜，其出口連接至陰極室，通過還原和再生，在陽極室中進一步再生消耗的次磷酸鹽，并將未消耗的次磷酸鹽*后從陽極室中移除，并通過電滲析，通過陰離子交換膜供至電鍍浴，這種電滲析設備的效果大體上與實際上具有多個稀液室和濃液室的電滲析裝置相同，但是，其膜交換面積與先提及的電滲析裝置的膜交換面積相同。