高純水設(shè)備處理濃縮分離含鎳離子溶液

      時(shí)間:2015-03-07 作者:admin 點(diǎn)擊:337次

      通過(guò)在高純水設(shè)備的淡化室和濃縮室中同時(shí)填充離子交換樹(shù)脂而構(gòu)成頻繁倒極電去離子(EDIR)過(guò)程,用以解決處理含重金屬離子溶液時(shí)高純水設(shè)備內(nèi)部易產(chǎn)生金屬氫氧化物結(jié)垢的關(guān)鍵難題.以NiSO4溶液為處理對(duì)象,采用濃縮水部分循環(huán)和濃、淡水流分步切換的運(yùn)行工藝,利用高純水設(shè)備單一過(guò)程,同步獲得了淡化出水的高截留率和濃縮產(chǎn)品水的高濃縮倍數(shù).實(shí)驗(yàn)條件下,倒極周期為4 h可獲*佳分離效果.對(duì)于含Ni2+ 50 mg·L-1、pH為3.0的NiSO4溶液,EDIR的淡水出水和濃水出水的Ni2+濃度可分別達(dá)到1.5 mg·L-1和3961 mg·L-1,淡水中Ni2+的脫除率為97%,濃水的濃縮倍數(shù)則為79.2,接近理論值.實(shí)驗(yàn)范圍內(nèi),EDIR過(guò)程運(yùn)行穩(wěn)定,未產(chǎn)生Ni(OH)2結(jié)垢.

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