以低濃度NiSO4溶液為處理對象,考察了極水室樹脂填充對高純水設(shè)備膜堆電阻、極限電流以及電極水pH的影響情況,并對高純水設(shè)備分離性能進(jìn)行了考察。結(jié)果表明,實驗條件下,極水室填充樹脂后膜堆的極限電壓由6 V提高到10 V,對應(yīng)的極限電流從0.213 A提高到0.421 A。對于含Ni2+離子50 mg/L的NiSO4溶液,高純水設(shè)備濃縮產(chǎn)品水Ni2+濃度達(dá)到14 224mg/L,濃縮倍數(shù)280倍;淡水出水中Ni2+濃度為3.45 mg/L,Ni2+脫除率為93%。實驗范圍內(nèi),高純水設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定,未產(chǎn)生Ni(OH)2結(jié)垢。